【新品发布】慧仪智控HY-4R小型真空滚筒等离子清洗机上市，可抽换滚筒适配多品类实验室粉末清洗

近日，深圳市慧仪智控科技有限公司（以下简称“慧仪智控”）正式推出新款HY-4R小型真空滚筒等离子清洗机，该设备专为实验室粉末材料清洗场景量身打造，凭借小体积、高均匀性、低损伤及滚筒可抽出替换的核心优势，可精准解决新能源电池材料、高温合金粉末、陶瓷粉末、碳粉等实验室研发阶段的表面清洁与活化难题，为科研人员提供高效、可靠的材料预处理解决方案。

在新材料研发领域，粉末材料的表面洁净度直接影响后续实验结果的准确性与可靠性。当前实验室阶段的粉末清洗多采用传统湿法清洗或简单干法处理，存在诸多痛点：湿法清洗易残留溶剂杂质，导致粉末团聚、性能劣化；传统干法处理难以实现粉末颗粒均匀清洁，易出现局部清洁不彻底或颗粒损伤等问题。尤其对于新能源电池正极材料、航空航天用高温合金粉末等高精度材料，表面微量杂质或氧化层都会显著影响材料的最终性能，亟需专业的清洗设备提供支撑。

作为专注于等离子表面处理设备研发制造的企业，慧仪智控依托多年技术积累，针对实验室场景的特殊需求，对新款HY-4R小型真空滚筒等离子清洗机进行了全方位优化设计。设备采用真空滚筒式结构，滚筒匀速转动可带动粉末材料充分翻滚，配合全方位等离子体覆盖，实现每一颗粉末颗粒的均匀清洁，彻底解决传统设备“清洁死角”问题；更创新性采用可抽出替换式滚筒设计，当需要处理不同品类粉末材料时，可快速抽出原有滚筒更换专用滚筒，不仅能避免不同材料交叉污染，保障实验纯度，还大幅缩短了换料清理时间，提升研发效率。同时，设备搭载慧仪智控自主研发的低损伤等离子发生系统，可精准调控等离子能量，在高效去除粉末表面氧化层、有机污染物的同时，避免对粉末颗粒造成破坏，保障材料原有性能不受影响。

慧仪智控HY-4R小型真空滚筒等离子清洗机具有四大核心亮点：一是体积小巧，设备尺寸仅为630mm×500mm（长×宽），可灵活放置于实验室各类工作台，适配实验室有限的空间环境；二是滚筒可抽出替换，支持多滚筒专属适配，杜绝材料交叉污染，换料清理更高效；三是操作便捷，配备智能化触控控制系统，预设多种常见粉末材料的清洗工艺参数，科研人员可直接调用，也可根据需求精准调整气体配比、处理时间、滚筒转速等参数，轻松实现个性化工艺定制；四是兼容性广，可适配金属粉末、陶瓷粉末、高分子粉末等多种材料类型，满足新能源、航空航天、电子材料、生物医药等多个领域的实验室研发需求。

据慧仪智控技术研发负责人介绍，HY-4R小型真空滚筒等离子清洗机在研发过程中充分结合了实验室场景的实际需求，通过无数次工艺调试，实现了清洁效率、材料保护与操作便捷性的完美平衡。经第三方检测验证，使用该设备处理后的高温合金粉末，表面氧含量可降低至100ppm以下，远优于行业平均水平；新能源电池正极材料经处理后，表面羟基活性基团含量提升30%以上，有效增强后续烧结与成型性能。尤其值得一提的是，可抽换滚筒设计在试用过程中获得了科研人员的广泛好评，大幅提升了多品类材料研发的实验效率。目前，该设备已在多家高校材料实验室完成试用，获得科研人员的高度认可。

慧仪智控始终以市场需求为导向，聚焦等离子表面处理技术的创新与突破，此次HY-4R小型真空滚筒等离子清洗机的推出，进一步完善了公司在实验室级等离子设备领域的产品布局，填补了实验室粉末材料专业清洗设备的市场空白。未来，慧仪智控将持续深耕等离子技术研发，不断推出更多适配不同场景的专用设备，为新材料研发、高端制造等领域提供更具竞争力的等离子表面处理解决方案，助力行业技术升级与产业创新发展。

如需了解慧仪智控HY-4R小型真空滚筒等离子清洗机的详细参数、试用申请或采购咨询，可登录慧仪智控官方网站或联系客服人员获取更多信息。